如何用N2O测定Cu分散度?
最近需要测定Cu的分散度,催化剂主要成分为Cu-ZnO。目前看了一些文献,有介绍用三步法的(TPR-N2O氧化-TPR),有两步法(还原-N2O氧化-TPR)。请问:
1.目前的主流方法是什么?是否还有其他方法?哪种方法较准确?
2.目前文献介绍N2O氧化时很容易发生体相的氧化,请问在什么条件下能尽量避免?或是用什么方法能尽量减少偏差?
3.最好能提供比较详细的步骤和条件,谢谢……
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这篇综述肯定能给你满意的答复!
谢谢
这篇文献写得蛮清楚的,不过还有几个疑问:
文献中说常温下N2O的覆盖度为0.35左右,氧化温度60C为宜,但我这几天看的几篇文献均指出在30C时便已经体相氧化发生,也就是覆盖度大于0.5,不知哪种说法比较准确
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1. 陈诵英的一本书里说,作铜的表面分散度测定,化学吸附法主要用笑气和CO两种气体,其中又以笑气更为常用。温度为20-50℃,低一点有利于控制反应在表面进行。
2. 控制反应温度和脉冲进气量应该能控制反应的进行程度,我也要做这个实验,不过买不到笑气,可以交流一下哈
二楼那篇文献我下不下来,能再传一遍吗?
马立清, 傅玉川, and 沈俭一, 铜催化剂有效表面积的测定. Chinese Journal of Catalysis, 2003. 24(4): p. 5.
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