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seawindzjr新虫 (初入文坛)
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[交流]
求助，High-K栅极绝缘膜制备工艺的问题
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各位大神好，我正在准备一个关于High-K材料的presentation，但是能找到的都是些比较旧的材料比如BaTiO3之类 比较新的材料像HfO2，TiO2只有很多的特性研究，缺陷研究，以及应用研究，却找不到如何制备的资料，这里http://www.chinesevacuum.com/seconds/xuehui/content.asp?id=133，虽然然TiO2膜的多种制备方法，但是没有给出优缺点，更没有提到工业目前使用的主要是那些方法 另外intel的网页我也去看了，他们有提他们的High-K已经能做到DK值多少，但是一字不提制备 求大神推荐一些有介绍最新High-K材料制备的网站或者论文，或者公司或者研究所也可以，我试着发邮件过去咨询 万分感谢，实在不想拿些古董级资料做presentation，希望能找到尽量新的资讯 |
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