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seawindzjr

新虫 (初入文坛)

[交流] 求助,High-K栅极绝缘膜制备工艺的问题

各位大神好,我正在准备一个关于High-K材料的presentation,但是能找到的都是些比较旧的材料比如BaTiO3之类
比较新的材料像HfO2,TiO2只有很多的特性研究,缺陷研究,以及应用研究,却找不到如何制备的资料,这里http://www.chinesevacuum.com/seconds/xuehui/content.asp?id=133,虽然然TiO2膜的多种制备方法,但是没有给出优缺点,更没有提到工业目前使用的主要是那些方法
另外intel的网页我也去看了,他们有提他们的High-K已经能做到DK值多少,但是一字不提制备
求大神推荐一些有介绍最新High-K材料制备的网站或者论文,或者公司或者研究所也可以,我试着发邮件过去咨询
万分感谢,实在不想拿些古董级资料做presentation,希望能找到尽量新的资讯
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