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[交流]
SEM测表面形貌的问题
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大家好,我想请问一个SEM的问题。 假如我用AB两个材料混在一起制成了膜,去测试SEM,那么请问最终测得的表面形貌,它是对AB两个材料导电性能对比度更加敏感,还是对整个膜的表面凹凸更为敏感呢?换而言之,我看到的是A和B互相共混的结构还是AB膜的表面的结构呢? 还有另外一个问题就是,我昨天看到有的帖子说,如果表层膜薄,而电压过高,会导致这层膜被穿透,从而测得的是基底的信息,我想请问这种说法对不对?如果表面的薄膜压根不导电,得到的信息会是什么呢? 非常感谢。 |
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papaverme
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小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
wwj_0905: 金币+2 2015-06-19 06:35:09
小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
wwj_0905: 金币+2 2015-06-19 06:35:09
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如果你的材料不导电,通常制样时会在表面溅镀一层导电的金或铂金,一般不把导电性作为衬度(对比度)的主要来源。 SEM最常用的检测器是二次电子检测器,对表面形貌信息更敏感。当表面基本没有形貌起伏时,也能体现出微弱的成分衬度,根据表面成分的原子序数不同而有明暗差别。 如果想强化成份衬度,则可采用背散射电子检测器(没有二次电子监测器那么普及),对表面成分的原子序数的不同更敏感,当成分差别不大时,也会显现出形貌衬度。 也就是说,SEM图像,不管是二次电子像还是背散射电子像,都是形貌衬度和成分衬度的混合,只是前者以形貌为主,后者以成分为主,这里的“成分”指原子序数。 至于“穿透”,是指电子束进入样品后的散射扩散,电压越高,样品原子序数越小,则电子的穿透深度越大,跟导电性关系不大。对于SEM常用的二次电子检测器,通常电子有效的“穿透”深度只有几纳米至十几纳米,而太深入的电子由于激发出的二次电子逃不出表面,不能被检测到。 如果担心样品内部或这基底信息被打出来,可以用较小的加速电压。如果就是想看内部信息,如果导电性够好,可以用较高的加速电压,或者加电压的同时采用背散射电子检测器。如果导电性差,就不要加电压了,加速电压越高,电荷累积会越严重。 如果样品不导电,由于电荷的累积,进入样品,没有被导走的电子会形成电场,排斥新来的入射电子,造成异常的衬度,通常得不到有用的信息,是需要避免的。 |
7楼2015-06-18 23:12:00
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