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翻译一篇关于磁控溅射SiAl靶材方面的文献遇到的问题 已有2人参与
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我不是很懂磁控溅射方面的知识，今天翻译一篇磁控溅射SiAl靶材方面的技术资料，下面这段中，有一些不是很懂，请高手赐教，帮忙翻译一下（尤其是 arc rate及plasma Ramping of power • Recommended step: 1 kW AC / m each minute • Maximum step: 3 kW AC / m each min • evaluate arc rate after each power increase • evaluate target and plasma visual at least every 15 minutes • if plasma is not stable or arc rate stays very high do not increase power but wait until plasma and arc rate stabilizes if plasma instability is very heavy or arcing is very heavy decrease power again |
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hwweven
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功率阶梯式增长方式 推荐步幅：每分钟1kw AC/m 最大步幅：每分钟3kw AC/m 每次功率增加后评估放电比率 至少每15分钟评估一次靶材和等离子状态 如果等离子不稳定或者放电比率过高时： 不要再增加功率，一直等到等离子和放电稳定 如果等离子极度不稳定或放电过于严重，重新降低功率 没做过磁控溅射，但搞过等离子，plasma就是等离子体的意思，arc rate大概是放电比率，如果等离子体不稳定的话，会出现一道道电弧，arc既是电弧或放电的意思。 |
2楼2014-12-17 22:40:00
hrhhrh
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