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ALD制备薄膜问题 已有1人参与
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各位虫友，有没有做ALD的？本人刚刚开始用ALD制备薄膜，源以及制备温度都是参考文献做的，但是基片上一直没有镀上膜。在想会不会是基片预处理的问题。 预处理过程：先用丙酮洗，再用NaOH+双氧水。 各位有没有相关的经验，求教啊！！！ |
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虽然，你提问在2014年，现在都2016年了，在以后必定也会有人会问这样的问题。在此我阐述一下我的观点。 导致薄膜长不上的原因有很多，如下： 1、出源量太低。虽然你使用了文献中的参数，但是不同设备还是有差异的，出源量低会导致薄膜生长不上，或者太薄，小于5纳米肉眼看不到。 2、周期太少。理由同上。 3、一般清洗用丙酮（5~10min超声）+酒精（5~10min超声）+HF(2%,不知道要多少时间)+De-water（5~10min 超声），HF清洗会影响表面羟基密度，具体清洗时间我不清楚，我下个星期做实验验证一下。我以前做的实验都是用HF（1%）泡3~5分钟。以前还超声过HF（1%）3~5分钟，结果长不上薄膜。其实最好用标准清洗的，但是RC-1，RC-2，实验室配起来太尴尬了，产生Cl2，我也是醉了。 4、载流气太小。源的扩散还没有到达衬底位置就被Purge了。 5、衬底位置太靠近排气口。 6、NaOH+双氧水，我没试过，不敢妄下结论。 7、腔室温度太高或太低。金属衬底温度低，生长速率低或长不上。而某些源温度过高分解。 |
8楼2016-06-06 20:47:34
wbcui
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