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lianqi_1210

铜虫 (初入文坛)

[求助] ALD制备薄膜问题 已有1人参与

各位虫友，有没有做ALD的？本人刚刚开始用ALD制备薄膜，源以及制备温度都是参考文献做的，但是基片上一直没有镀上膜。在想会不会是基片预处理的问题。
预处理过程：先用丙酮洗，再用NaOH+双氧水。
各位有没有相关的经验，求教啊！！！
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1楼 2014-10-24 13:36:12
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wbcui

至尊木虫 (知名作家)
楼主
你的设备哪里买的？

你用的什么基片啊？
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2楼2014-10-24 15:46:24
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巴巴罗萨

铁虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
lianqi_1210: 金币+5, ★有帮助 2014-10-26 14:56:04
基片怎么洗的没有很大关系吧？
会不会是源没有到基片上，确定一下基片托盘的位置有没有膜？腔体内其它地方有没有膜？如果腔体内有些地方有膜而基片上没有，就是反应条件应该没有问题，只是设备原因反应源没有覆盖到基片上
如果整个腔体都没有膜，就检查下实验条件的设置有可能有问题了，当然也可能设备有问题而完全不反应生成膜
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3楼2014-10-25 22:13:42
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lianqi_1210

铜虫 (初入文坛)
引用回帖:
3楼: Originally posted by 巴巴罗萨 at 2014-10-25 22:13:42
基片怎么洗的没有很大关系吧？
会不会是源没有到基片上，确定一下基片托盘的位置有没有膜？腔体内其它地方有没有膜？如果腔体内有些地方有膜而基片上没有，就是反应条件应该没有问题，只是设备原因反应源没有覆盖到 ...

设备应该没问题，别的膜可以镀上去，我的膜做出来是透明的，就算镀在腔体上也看不出来。我的反应温度这些也都是参照文献的。不是说基片要羟基化，源才能有效的吸附在基片上么？
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4楼2014-10-26 14:54:45
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lianqi_1210

铜虫 (初入文坛)
引用回帖:
2楼: Originally posted by wbcui at 2014-10-24 15:46:24
楼主
你的设备哪里买的？

你用的什么基片啊？

设备是芬兰的，基片试过硅片和玻片，上面都没有膜。。。
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5楼2014-10-26 14:57:03
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dulong107

金虫 (小有名气)
内容已删除
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6楼2014-11-25 16:29:40
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153470403

新虫 (小有名气)
基片要要在真空室内用AR气吹干吗
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搞研究真痛苦
7楼2015-04-13 16:08:14
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风行天下2016

新虫 (初入文坛)
虽然，你提问在2014年，现在都2016年了，在以后必定也会有人会问这样的问题。在此我阐述一下我的观点。
导致薄膜长不上的原因有很多，如下：
1、出源量太低。虽然你使用了文献中的参数，但是不同设备还是有差异的，出源量低会导致薄膜生长不上，或者太薄，小于5纳米肉眼看不到。
2、周期太少。理由同上。
3、一般清洗用丙酮（5~10min超声）+酒精（5~10min超声）+HF(2%,不知道要多少时间)+De-water（5~10min 超声），HF清洗会影响表面羟基密度，具体清洗时间我不清楚，我下个星期做实验验证一下。我以前做的实验都是用HF（1%）泡3~5分钟。以前还超声过HF（1%）3~5分钟，结果长不上薄膜。其实最好用标准清洗的，但是RC-1，RC-2，实验室配起来太尴尬了，产生Cl2，我也是醉了。
4、载流气太小。源的扩散还没有到达衬底位置就被Purge了。
5、衬底位置太靠近排气口。
6、NaOH+双氧水，我没试过，不敢妄下结论。
7、腔室温度太高或太低。金属衬底温度低，生长速率低或长不上。而某些源温度过高分解。
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8楼2016-06-06 20:47:34
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