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ALD制备薄膜问题
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lianqi_1210
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ALD制备薄膜问题
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各位虫友,有没有做ALD的?本人刚刚开始用ALD制备薄膜,源以及制备温度都是参考文献做的,但是基片上一直没有镀上膜。在想会不会是基片预处理的问题。
预处理过程:先用丙酮洗,再用NaOH+双氧水。
各位有没有相关的经验,求教啊!!!
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1楼
2014-10-24 13:36:12
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lianqi_1210
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2楼
:
Originally posted by
wbcui
at 2014-10-24 15:46:24
楼主
你的设备哪里买的?
你用的什么基片啊?
设备是芬兰的,基片试过硅片和玻片,上面都没有膜。。。
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5楼
2014-10-26 14:57:03
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wbcui
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楼主
你的设备哪里买的?
你用的什么基片啊?
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2楼
2014-10-24 15:46:24
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巴巴罗萨
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专业: 半导体光电子器件
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lianqi_1210: 金币+5,
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有帮助
2014-10-26 14:56:04
基片怎么洗的没有很大关系吧?
会不会是源没有到基片上,确定一下基片托盘的位置有没有膜?腔体内其它地方有没有膜?如果腔体内有些地方有膜而基片上没有,就是反应条件应该没有问题,只是设备原因反应源没有覆盖到基片上
如果整个腔体都没有膜,就检查下实验条件的设置有可能有问题了,当然也可能设备有问题而完全不反应生成膜
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3楼
2014-10-25 22:13:42
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lianqi_1210
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专业: 应用有机化学
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3楼
:
Originally posted by
巴巴罗萨
at 2014-10-25 22:13:42
基片怎么洗的没有很大关系吧?
会不会是源没有到基片上,确定一下基片托盘的位置有没有膜?腔体内其它地方有没有膜?如果腔体内有些地方有膜而基片上没有,就是反应条件应该没有问题,只是设备原因反应源没有覆盖到 ...
设备应该没问题,别的膜可以镀上去,我的膜做出来是透明的,就算镀在腔体上也看不出来。我的反应温度这些也都是参照文献的。不是说基片要羟基化,源才能有效的吸附在基片上么?
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4楼
2014-10-26 14:54:45
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