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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 计算模拟区 » 第一性原理 » Vasp&MedeA » VASP结构优化，分步优化和一次型优化的区别？
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xingjigaoda

铜虫 (小有名气)

[求助] VASP结构优化，分步优化和一次型优化的区别？ 已有2人参与

本人新虫，有一个问题一直无法解决：计算一个Ce4O8的超胞，需要全结构弛豫（允许晶格常数和内部原子位置的改变），在进行结构优化的时候，分步优化要先进行一次弛豫计算，我的ISIF该设置多少？第二次优化计算的时候ISIF又该如何设置？这两次优化有什么区别么？另，分步优化比一次型优化的优势在哪里？请各位虫友帮帮我，谢谢呢
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1楼 2014-09-25 08:11:13
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Jiansh

新虫 (小有名气)
引用回帖:
3楼: Originally posted by xingjigaoda at 2014-09-25 13:41:58
如果是结构优化设置成ISIF=2，那晶格常数和位置还会变化么？（要求晶格常数和内部原子位置改变），我结构优化时候设置ISIF=3，然后进行静态计算ISIF=2，这样可以么？...

我是这样的观点，优化原包时候可以优化晶格常数
在设计超胞或者切面后 就保持晶格常数不变啦 只优化原子位置
我也才初学不久....这么理解的
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4楼2014-09-25 15:46:39
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Jiansh

新虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
个人觉得 ISIF=2，一般是这样的，如果在建模之前优化原包，可以设ISIF=3，但是建超薄后，设置ISIF=2
分布优化交一步优化时间少些
这个论坛中有教程
这些都是我的设置，一般这么用：（仅仅代表个人观点）
最初可以设置 EDIFF=1E-4  EDIFFG=-5E-2 ISPIN=1   
然后把CONRCAR改为POSCAR 设置EDIFF=1E-4 EDIFFG -2E-2 ISPIN=2
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2楼2014-09-25 12:33:24
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xingjigaoda

铜虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by Jiansh at 2014-09-25 12:33:24
个人觉得 ISIF=2，一般是这样的，如果在建模之前优化原包，可以设ISIF=3，但是建超薄后，设置ISIF=2
分布优化交一步优化时间少些
这个论坛中有教程
这些都是我的设置，一般这么用：（仅仅代表个人观点）
最初可 ...

如果是结构优化设置成ISIF=2，那晶格常数和位置还会变化么？（要求晶格常数和内部原子位置改变），我结构优化时候设置ISIF=3，然后进行静态计算ISIF=2，这样可以么？
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3楼2014-09-25 13:41:58
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whyaquarius

新虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
xingjigaoda: 金币+10, ★★★很有帮助 2014-11-28 19:25:51
原则上说分步优化跟一次成型之间没有区别，但是实际上可能会有差异。

分布优化（收敛精度逐渐提高，离子步数逐渐增加）可以有效避免结构优化过程中原子跑到一些很诡异的位置上。尤其是受力比较弱（比如说吸附），或者初始结构跟稳定结构相差比较大的时候更应该谨慎使用一步到位的优化策略。
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5楼2014-09-27 16:35:57
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