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小珠珠alone

新虫 (初入文坛)

[求助] 磁控溅射氧化铝和氧化锌 已有2人参与

我刚刚接触磁控溅射,做了氧化物TFT器件,,氧化铝做绝缘层,氧化锌为有源层,制备完之后,发现器件很容易被击穿,没有一点场效应,电流还有随着电压增大下降的趋势,猜想可能是氧化铝太薄,但是加大膜厚后,依然如此,而且感觉有源层溅射的也不均匀,溅射设备是三个靶,头碰头,基片可以旋转,没有充氧,也没有使用退火,我想问一下有没有遇到过这种情况的?应该怎么解决?谢谢!

[ Last edited by sddtc888 on 2014-3-17 at 10:54 ]
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尘隐土

木虫 (正式写手)

贫困区

引用回帖:
6楼: Originally posted by 小珠珠alone at 2014-03-19 20:01:08
对了,忘了说,溅射完之后,可以看到玻璃片上颜色的变化,这应该表示是不均匀的,是不是要把靶材和基片离远一点?现在靶头距离基片有8厘米...

把转台旋转开快一点点
8楼2014-03-19 22:00:19
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huhuking

金虫 (正式写手)

晶体金属化你们做不做?
2楼2014-03-15 20:54:14
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小珠珠alone

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
2楼: Originally posted by huhuking at 2014-03-15 20:54:14
晶体金属化你们做不做?

没听过
3楼2014-03-17 09:17:02
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尘隐土

木虫 (正式写手)

贫困区

【答案】应助回帖


感谢参与,应助指数 +1
sddtc888: 金币+1, 感谢应助,欢迎常来! 2014-03-18 13:19:19
溅射,要是你们旋转台是旋转的,基本不会不均匀,如果出现这种情况,应当是有杂质

» 本帖已获得的红花(最新10朵)

4楼2014-03-17 22:33:32
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