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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 化学化工区 » 无机/物化 » 综合其它 » 磁控溅射氧化铝和氧化锌
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小珠珠alone

新虫 (初入文坛)

[求助] 磁控溅射氧化铝和氧化锌 已有2人参与

我刚刚接触磁控溅射，做了氧化物TFT器件，，氧化铝做绝缘层，氧化锌为有源层，制备完之后，发现器件很容易被击穿，没有一点场效应，电流还有随着电压增大下降的趋势，猜想可能是氧化铝太薄，但是加大膜厚后，依然如此，而且感觉有源层溅射的也不均匀，溅射设备是三个靶，头碰头，基片可以旋转，没有充氧，也没有使用退火，我想问一下有没有遇到过这种情况的？应该怎么解决？谢谢！

[ Last edited by sddtc888 on 2014-3-17 at 10:54 ]
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1楼 2014-03-15 11:01:36
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小珠珠alone

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
2楼: Originally posted by huhuking at 2014-03-15 20:54:14
晶体金属化你们做不做？

没听过
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3楼2014-03-17 09:17:02
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huhuking

金虫 (正式写手)
晶体金属化你们做不做？
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2楼2014-03-15 20:54:14
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尘隐土

木虫 (正式写手)

贫困区

【答案】应助回帖

★
感谢参与，应助指数 +1
sddtc888: 金币+1, 感谢应助，欢迎常来！ 2014-03-18 13:19:19
溅射,要是你们旋转台是旋转的,基本不会不均匀，如果出现这种情况，应当是有杂质
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小珠珠alone
4楼2014-03-17 22:33:32
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小珠珠alone

新虫 (初入文坛)
送红花一朵
引用回帖:
4楼: Originally posted by 尘隐土 at 2014-03-17 22:33:32
溅射,要是你们旋转台是旋转的,基本不会不均匀，如果出现这种情况，应当是有杂质

我们的靶材只有两寸，所以覆盖的范围小，三个靶头是头碰头的，而不是竖直的，溅射两个小时还是很容易击穿，蒸上一层电极后，只有几百欧。我们的靶是二氧化硅靶，是不是需要通通氧气？
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5楼2014-03-19 19:59:43
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