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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 材料工程 » 其他 » MEMS技术刻蚀硅片，由于实验室条件简陋
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孤子游侠

银虫 (小有名气)

[求助] MEMS技术刻蚀硅片，由于实验室条件简陋 已有2人参与

MEMS技术刻蚀硅片，制备一悬臂梁结构的微加热器。由于实验室条件简陋，只能用一层SiO2作为悬臂梁的支撑梁。该支撑梁是在1000℃干氧Si片制备的，时间是36h。
我主要有两个问题：1，只用一层SiO2作为悬臂梁可行否。刻蚀Si是用的KOH刻蚀液（实验室条件有限，只有热蒸发跟磁控溅射）。因为我也知道从KOH刻蚀液中取出非常困难。
2，什么材料可以作为正面的掩膜抵挡KOH溶液的腐蚀（正面是用的Cr作为加热丝）。
3，还有没有更好的思路~~~~
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为奋斗而来
1楼 2013-12-16 10:18:26
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reccnrain

捐助贵宾 (小有名气)
本帖内容被屏蔽
6楼2014-03-10 17:36:35
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甲斐之虎

银虫 (正式写手)
楼主哪个学校的？
赞一下 回复此楼
别人笑我太疯颠，我笑他人看不穿。不见五陵豪杰墓，无花无酒锄作田。
3楼2013-12-16 15:44:59
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孤子游侠

银虫 (小有名气)
引用回帖:
3楼: Originally posted by 甲斐之虎 at 2013-12-16 15:44:59
楼主哪个学校的？

广大
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为奋斗而来
4楼2013-12-16 16:16:01
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314977903

版主 (职业作家)

小风子
帮顶！！！！
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5楼2013-12-17 08:30:19
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