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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » TMAH腐蚀硅片时保护硅片表面的铝电极
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明月秋风寒

铁虫 (初入文坛)

[交流] TMAH腐蚀硅片时保护硅片表面的铝电极 已有4人参与

小弟在做MEMS工艺时由于操作失误，在还没有进行TMAH腐蚀时把光刻胶去掉了，由于硅片表面有台阶结构，因此不能再次甩胶了。文献上说TMAH腐蚀铝的速率基本为0，但是为了保险起见，还是想在TMAH腐蚀硅前在表面增加一层保护铝电极的的保护层，各位大神有好的建议吗？
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yswyx关于腐蚀/刻蚀的回复

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1楼 2012-11-08 09:20:57
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exciting1973

禁虫 (正式写手)
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2楼2012-11-08 10:17:18
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yswyx

专家顾问 (著名写手)
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小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
TMAH是腐蚀铝的，速度肯定比硅快，哪个文献上说不腐蚀的？尽胡扯啊。
如果你需要保护铝膜，可以用PECVD在硅片上做一层SiO和SiN（无氢），然后用光刻，腐蚀，在需要腐蚀硅的位置，把SiO/SiN薄膜用HF腐蚀出窗口。然后再进行TMAH的腐蚀，铝膜会被SiO/SiN保护起来。这里要注意的是，PECVD的薄膜会有针孔以及含H，所以很疏松，你要找能够做不含H的PECVD做。

另外一个办法就是找抗碱的光刻胶，用spray coating的办法喷到片子表面，然后做光刻，露出需要时腐蚀的硅的部分，再去做TMAH腐蚀。

另外，这个方法你是逃不掉的，因为普通的光刻胶是扛不住TMAH的，所以你在腐蚀前把做铝膜的光刻胶去掉是必须的，这不属于失误。

最后，需要注意的是，你算好腐蚀的深度，算好腐蚀的时间，来确定SiO/SiN薄膜的厚度，或者是抗碱光刻胶的厚度。
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3楼2012-11-08 15:39:23
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明月秋风寒

铁虫 (初入文坛)
引用回帖:
3楼: Originally posted by yswyx at 2012-11-08 15:39:23
TMAH是腐蚀铝的，速度肯定比硅快，哪个文献上说不腐蚀的？尽胡扯啊。
如果你需要保护铝膜，可以用PECVD在硅片上做一层SiO和SiN（无氢），然后用光刻，腐蚀，在需要腐蚀硅的位置，把SiO/SiN薄膜用HF腐蚀出窗口。然后 ...

谢谢，我试一下。有其他问题还得请教您
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4楼2012-11-09 12:06:00
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yswyx

专家顾问 (著名写手)
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小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
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4楼: Originally posted by 明月秋风寒 at 2012-11-09 12:06:00
谢谢，我试一下。有其他问题还得请教您...

不客气，把工艺书再多翻几遍
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5楼2012-11-09 13:08:33
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quanten

金虫 (著名写手)

QQ群(NW-FET): 157220400
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TMAH可以腐蚀Al，楼上正解
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6楼2013-05-21 20:05:57
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博士_14

新虫 (初入文坛)
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3楼: Originally posted by yswyx at 2012-11-08 15:39:23
TMAH是腐蚀铝的，速度肯定比硅快，哪个文献上说不腐蚀的？尽胡扯啊。
如果你需要保护铝膜，可以用PECVD在硅片上做一层SiO和SiN（无氢），然后用光刻，腐蚀，在需要腐蚀硅的位置，把SiO/SiN薄膜用HF腐蚀出窗口。然后 ...

你好，我用5%的TMAH腐蚀液腐蚀体硅，结果发现是各向同性腐蚀。。。。会是哪方面出现问题了?
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7楼2014-07-30 09:14:32
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quanten

金虫 (著名写手)

QQ群(NW-FET): 157220400
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7楼: Originally posted by 博士_14 at 2014-07-30 09:14:32
你好，我用5%的TMAH腐蚀液腐蚀体硅，结果发现是各向同性腐蚀。。。。会是哪方面出现问题了?...

理论上不会这样，用新鲜的溶液，不要加其他东西，另外如果要继续提高选择比，可以用KOH 溶液
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8楼2014-07-30 16:56:03
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yswyx

专家顾问 (著名写手)
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7楼: Originally posted by 博士_14 at 2014-07-30 09:14:32
你好，我用5%的TMAH腐蚀液腐蚀体硅，结果发现是各向同性腐蚀。。。。会是哪方面出现问题了?...

你是怎么判断出事各向同性的呢？？？
有图最好。
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9楼2014-07-30 18:04:08
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