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氢氟酸刻蚀二氧化硅的反应条件
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我的材料是以5 um的硅球合成SiO2/C复合材料，想除去SiO2， 1、氢氟酸浓度 2、是否要加热？加热温度？ 3、需要搅拌吗？搅拌的话用普通的磁子可以吗，磁子会不会被腐蚀掉？ 4、一定要敞口吗？我们实验室通风橱是一体的，只能所有的抽风口一起开，这样很耗电，如果敞口而且反应时间很长的话会很浪费电。 5、反应时间多长合适呢？ 非常感谢！ |
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