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孤子游侠

银虫 (小有名气)

[求助] MEMS技术刻蚀硅片,由于实验室条件简陋 已有2人参与

MEMS技术刻蚀硅片,制备一悬臂梁结构的微加热器。由于实验室条件简陋,只能用一层SiO2作为悬臂梁的支撑梁。该支撑梁是在1000℃干氧Si片制备的,时间是36h。
我主要有两个问题:1,只用一层SiO2作为悬臂梁可行否。刻蚀Si是用的KOH刻蚀液(实验室条件有限,只有热蒸发跟磁控溅射)。因为我也知道从KOH刻蚀液中取出非常困难。
2,什么材料可以作为正面的掩膜抵挡KOH溶液的腐蚀(正面是用的Cr作为加热丝)。
3,还有没有更好的思路~~~~
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为奋斗而来
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖
2楼2013-12-16 12:44:10
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甲斐之虎

银虫 (正式写手)

楼主哪个学校的?
别人笑我太疯颠,我笑他人看不穿。不见五陵豪杰墓,无花无酒锄作田。
3楼2013-12-16 15:44:59
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孤子游侠

银虫 (小有名气)

引用回帖:
3楼: Originally posted by 甲斐之虎 at 2013-12-16 15:44:59
楼主哪个学校的?

广大
为奋斗而来
4楼2013-12-16 16:16:01
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314977903

版主 (职业作家)

小风子


帮顶!!!!
5楼2013-12-17 08:30:19
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reccnrain

捐助贵宾 (小有名气)

本帖内容被屏蔽

6楼2014-03-10 17:36:35
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luojiandong

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

用二氧化硅做掩膜是没有问题的,不知道楼主的研究方向是什么呢?
冲冲过客。
7楼2014-03-11 22:07:16
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