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csa5344235

木虫 (正式写手)

[求助] 磁控溅射靶材靶头跑道不正常，什么原因？

磁控溅射靶材异常，2对中频孪生硅靶，反应溅射时，靶头位置跑道不正常，溅射成一个笑脸状？什么原因？求各位大神解惑啊！！
磁控溅射靶材靶头跑道不正常，什么原因？
IMAG0297.jpg
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1楼 2013-09-29 21:20:03
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shuishenwy

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★
csa5344235: 金币+5 2013-10-01 07:51:49
磁场不是很均匀吧，还有就是可能你的靶材本身的原因
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4楼2013-09-30 09:55:47
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黄瓜一样冰凉

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★
csa5344235: 金币+5, 博学EPI+1, 磁场分布没问题啊！ 2013-10-01 07:51:21
没太看得清楚你的图片。要是能再补发两张就好了。初步的的话可以检查端头的磁场分布情况。
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2楼2013-09-30 03:50:08
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letter_2

铁杆木虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★
csa5344235: 金币+5, 磁场没问题啊，冷却水跟磁场分布有关系吗？ 2013-10-01 07:52:22
Sputtering Gun裡面的?娏Υ盆F的磁力變弱了就會出現這種現象，
你是不是Sputtering的時候冷卻水忘記開了???
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3楼2013-09-30 03:56:22
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letter_2

铁杆木虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

冷卻水忘記開，因為溫度高，?娏Υ盆F會慢慢消磁，磁場就會出問題。
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5楼2013-10-01 12:59:42
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