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王九秀wjx

新虫 (初入文坛)

[交流] 磁控溅射ITO 已有7人参与

磁控溅射ITO时,预溅射是只需通氩气就可以吗?还是氧气也需要通入才可以预溅射?
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yachong001

新虫 (小有名气)


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
所谓是预溅射,其实就是除去靶材表面的一层而已,只通氩气足矣!ITO溅射需要的氧气本来也少,氧气加点也无妨。这又不是硅靶。
8楼2019-10-21 16:51:48
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Smallpeng

木虫 (正式写手)


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
chemlh: 欢迎积极交流 2012-12-10 09:30:35
预溅射的目的是除去靶材表面的杂质等,只通氩气应该可以吧
勇敢自信踏实,科研其实和生活是一样一样的
3楼2012-12-09 21:32:20
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almonleng1

铁虫 (初入文坛)

★ ★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
nofrunolif: 金币+1, 鼓励交流, 2012-12-10 09:03:49
一定要,最好是在垃圾衬底上预溅射几次, 然后再开始正式溅射。
预溅射的条件和正式的条件要尽量一模一样,让整个腔体达到一个动态的平衡,这需要很长的时间,一旦这个平衡建立起来以后,就可以保持很长的时间。
4楼2012-12-10 07:08:10
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zsy1207333

铁杆木虫 (著名写手)

四楼正解
一个男人的梦想应该是承担起更大的责任
5楼2012-12-10 08:08:36
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