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北京石油化工学院2026年研究生招生接收调剂公告
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dearmaximus

金虫 (正式写手)

迷途小书童/二手科学家

[求助] 关于光刻剥离的难题

在SiO2/Si片匀胶光刻后钨舟热蒸发100nm铝膜,剥离过程中发现图形部分的金属膜无法剥离,请高手指点迷津!丙酮加热和常温浸泡3天仍无法剥离。是什么原因导致的?匀胶过程:800转/分for12秒,3000转/分for30秒,前烘80度for10分钟,后烘85度for10分钟,光刻胶是BP212正胶。
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haerbin06

铜虫 (小有名气)

刻蚀掉不可以吗,,湿刻蚀
我很好
3楼2012-05-31 20:19:40
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查看全部 8 个回答

tkhk

木虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

★ ★
感谢参与,应助指数 +1
dearmaximus: 金币+1, ★★★★★最佳答案 2012-05-21 09:45:33
lchpy: 金币+1, thanks for your information~ 2012-05-31 20:56:46
光刻剥离一般用负胶
楼主可以去半导体技术天地问问,那里更专业
2楼2012-05-17 18:46:52
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dearmaximus

金虫 (正式写手)

迷途小书童/二手科学家

引用回帖:
3楼: Originally posted by haerbin06 at 2012-05-31 20:19:40
刻蚀掉不可以吗,,湿刻蚀

现在知道了,正胶做不出倒梯形,而且热蒸发金属的粘附力不够,无法超声剥离。
4楼2012-06-01 12:03:49
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haerbin06

铜虫 (小有名气)

引用回帖:
4楼: Originally posted by dearmaximus at 2012-06-01 12:03:49
现在知道了,正胶做不出倒梯形,而且热蒸发金属的粘附力不够,无法超声剥离。...

倒梯形,要用负娇,而且要厚点的,如su8,看你的线宽要求了........超声肯定不会完全脱落的,,,,粘附力取决于你的基地的表面性质,,建议蒸镀之前用descum
我很好
5楼2012-06-01 12:33:44
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