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制剂处方筛选,辅料均出峰
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lzx_flying
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制剂处方筛选,辅料均出峰
最近在做一项目的制剂处方筛选,采用原料的有关物质方法,各个辅料均在5分钟处出峰(原料在此位置有一杂质,0天小于0.05%),空白溶剂也有,峰面积大概300左右,单独辅料按处方比例配制,5分钟处峰面积大概3000,总辅达4w,按1%对照计算后,大概0.13%。考察滤膜吸附,无影响,离心处理的空辅也有;制剂换用进口辅料后还存在。不知道要从哪里处理此问题,愿各位前辈指导
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2012-03-18 21:38:28
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2012-03-20 08:17:11
辅料与空白出峰处的紫外吸收峰是不是药物,若是则是药物残留引起干扰,多半是辅料或者移液管等被药物污染,或是操作不当等;若不是,很可能是柱子对药物有太强保留作用,建议更换柱子或者机器重试。
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社会犹如一条船,每个人都要有掌舵的准备
4楼
2012-03-19 18:29:57
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3楼
:
Originally posted by
hundun001
at 2012-03-19 12:01:18:
原辅料、空白都在一个地方出峰,换句话说,柱子对这些物料的保留时间是一样的,考虑柱子、流动相是不是有问题。
空针没有,可以排除柱子和流动相的问题吗
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7楼
2012-03-19 21:38:46
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zhoudeli: 金币+1, 多谢参与
2012-03-19 12:38:31
用什么检测器?是否可以调整分析方法?
不同辅料,相同位置出峰,很不解。
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守候在风中的宁静。
2楼
2012-03-19 08:32:45
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hundun001
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2012-03-19 12:38:38
原辅料、空白都在一个地方出峰,换句话说,柱子对这些物料的保留时间是一样的,考虑柱子、流动相是不是有问题。
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3楼
2012-03-19 12:01:18
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2012-03-20 08:17:25
是否辅料均被污染了,考察辅料放置的地方;更换溶剂试试;调节流动相PH;看看空针有没有,没有的话基本可以排除柱子和检测器等,清洗进样器;是在不行更换辅料或调整方法
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5楼
2012-03-19 19:19:00
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2楼
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Originally posted by
痴夷子皮
at 2012-03-19 08:32:45:
用什么检测器?是否可以调整分析方法?
不同辅料,相同位置出峰,很不解。
紫外检测器,打算最好制剂和原料的方法一致
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6楼
2012-03-19 21:35:58
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近三周重复此试验,每次空白和空辅都会有此峰,可以排除操作不当或者过程污染引起。流动相中的乙腈换用甲醇,空白5分钟无干扰,但是空辅任然有峰。会不会是溶剂破坏了辅料后产生的杂质峰?
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8楼
2012-03-19 21:56:46
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2012-03-21 14:52:00
如果辅料及溶剂经验证确实在此液相条件及波长处有吸收,又没有更好的解决办法,那就用扣除法,即把空白辅料及溶剂影响的峰面积扣除。
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9楼
2012-03-20 08:37:16
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7楼
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lzx_flying
at 2012-03-19 21:38:46:
空针没有,可以排除柱子和流动相的问题吗
楼主是否一定要用原料方法,什么都不改!只要是方法不适合自己的产品,都可以改的,但要验证改后的方法没问题就可以的。
其实对于色谱条件这一块,可能你自己检时是按要求来做,但如果样品送检时,别人会根据实际情况稍作调整也是没问题的,如流动相比例的调整来适应不同设备的使用。
不知道楼主有没有想过或是已经试过调整一下色谱条件呢!
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10楼
2012-03-20 09:01:12
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