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制剂处方筛选,辅料均出峰
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| 最近在做一项目的制剂处方筛选,采用原料的有关物质方法,各个辅料均在5分钟处出峰(原料在此位置有一杂质,0天小于0.05%),空白溶剂也有,峰面积大概300左右,单独辅料按处方比例配制,5分钟处峰面积大概3000,总辅达4w,按1%对照计算后,大概0.13%。考察滤膜吸附,无影响,离心处理的空辅也有;制剂换用进口辅料后还存在。不知道要从哪里处理此问题,愿各位前辈指导 |
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