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制剂处方筛选，辅料均出峰
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| 最近在做一项目的制剂处方筛选，采用原料的有关物质方法，各个辅料均在5分钟处出峰（原料在此位置有一杂质，0天小于0.05%），空白溶剂也有，峰面积大概300左右，单独辅料按处方比例配制，5分钟处峰面积大概3000，总辅达4w，按1%对照计算后，大概0.13%。考察滤膜吸附，无影响，离心处理的空辅也有；制剂换用进口辅料后还存在。不知道要从哪里处理此问题，愿各位前辈指导 |
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