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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 学术讨论 » 磁控溅射镀ZnO，大家真空度一般抽到多少？
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halcyon1988

金虫 (小有名气)

[交流] 磁控溅射镀ZnO，大家真空度一般抽到多少？

我们实验室磁控溅射真空度一般都抽到5×10^（-4）Pa之后开始溅射。 最近实验室磁控溅射仪坏了，只能抽到十的负三Pa，不知道大家磁控溅射真空都抽到多少Pa？像我抽到2×10^（-3）能开始溅射吗？
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1楼2011-11-27 15:39:04
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yanzhedeyu

金虫 (正式写手)
★
halcyon1988(金币+1):谢谢参与
工业级的大线，本底真空：5.0*10-7mbar  
开工艺压力3.0*10-3mbar
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13楼2011-12-24 02:26:23
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kingluck

至尊木虫 (文坛精英)
★
halcyon1988(金币+1):谢谢参与
当然是越高越好，最好在1点几乘负4左右。
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2楼2011-11-27 16:00:09
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bill_shark

银虫 (小有名气)
★ ★
halcyon1988(金币+1):谢谢参与
xjajx(金币+1): 2011-11-30 19:27:43
真空度当然越高越好，如果本地真空低的话，可能做出来的ZnO里面的氧含量会有些变化，因为真空室内吸附的氧气没有完全抽出，就相当于在镀制薄膜时充氧了。这样的薄膜透过率会有些变化，导电性也会变。
我们一般也是抽到5e-4Pa开始溅射的。
磁控溅射机坏了？抽不动的话估计是漏气吧？用酒精检漏了么？
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3楼2011-11-27 18:24:43
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ybhan

金虫 (正式写手)
★ ★
halcyon1988(金币+1):谢谢参与
xjajx(金币+1): 2011-11-30 19:27:52
不认为真空度越高愈好！因为真空度太低的话，建设速率将非常低，我一般将本地真空抽到10^-1 Pa，然后真空度保持在大概2Pa左右溅射
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4楼2011-11-28 09:24:55
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