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halcyon1988

金虫 (小有名气)


[交流] 磁控溅射镀ZnO,大家真空度一般抽到多少?

我们实验室磁控溅射真空度一般都抽到5×10^(-4)Pa之后开始溅射。 最近实验室磁控溅射仪坏了,只能抽到十的负三Pa,不知道大家磁控溅射真空都抽到多少Pa?像我抽到2×10^(-3)能开始溅射吗?
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yanzhedeyu

金虫 (正式写手)



halcyon1988(金币+1):谢谢参与
工业级的大线,本底真空:5.0*10-7mbar  
开工艺压力3.0*10-3mbar
13楼2011-12-24 02:26:23
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kingluck

至尊木虫 (文坛精英)



halcyon1988(金币+1):谢谢参与
当然是越高越好,最好在1点几乘负4左右。
2楼2011-11-27 16:00:09
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bill_shark

银虫 (小有名气)


★ ★
halcyon1988(金币+1):谢谢参与
xjajx(金币+1): 2011-11-30 19:27:43
真空度当然越高越好,如果本地真空低的话,可能做出来的ZnO里面的氧含量会有些变化,因为真空室内吸附的氧气没有完全抽出,就相当于在镀制薄膜时充氧了。这样的薄膜透过率会有些变化,导电性也会变。
我们一般也是抽到5e-4Pa开始溅射的。
磁控溅射机坏了?抽不动的话估计是漏气吧?用酒精检漏了么?
3楼2011-11-27 18:24:43
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ybhan

金虫 (正式写手)


★ ★
halcyon1988(金币+1):谢谢参与
xjajx(金币+1): 2011-11-30 19:27:52
不认为真空度越高愈好!因为真空度太低的话,建设速率将非常低,我一般将本地真空抽到10^-1 Pa,然后真空度保持在大概2Pa左右溅射
4楼2011-11-28 09:24:55
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