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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳器件 » 【求助】光刻用的掩模板怎么清洗？
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newbeefans

木虫 (正式写手)

[交流] 【求助】光刻用的掩模板怎么清洗？

掩模板用了很久了， 表面脏了（残余光刻胶、灰尘、指纹之类的）
请问用什么清洗啊, IPO？丙酮？
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1楼 2011-01-04 17:42:19
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1171354327

新虫 (初入文坛)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
引用回帖:
25楼: Originally posted by Mr.不太靠谱 at 2014-07-08 21:02:01
用饱和的NaOH溶液浸泡5min, 用去离子水冲洗，然后用50%浓硫酸泡5min,用去离子水冲洗 氮气吹干  这是掩膜板厂家提供的清洗方法

要是没有浓硫酸，能用其他的酸代替吗？
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26楼2018-01-16 19:56:08
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