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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳器件 » 【求助】光刻用的掩模板怎么清洗？
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newbeefans

木虫 (正式写手)

[交流] 【求助】光刻用的掩模板怎么清洗？

掩模板用了很久了， 表面脏了（残余光刻胶、灰尘、指纹之类的）
请问用什么清洗啊, IPO？丙酮？
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1楼 2011-01-04 17:42:19
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tongzone

新虫 (初入文坛)
★
小木虫(金币+0.5):给个红包，谢谢回帖
TZ-MWS-II掩膜版清洗机

掩膜清洗一般使用掩膜版清洗液，DI water冲洗， 放入掩膜板清洗机边冲洗边旋转，将污染颗粒冲洗干净。之后高速旋转甩干。 掩膜板清洗机可清洗3寸、4寸、5寸、6寸掩膜。  
  ToneZone mask掩膜板清洗机 配备有DI Water喷头、速度控制模块、远红外烘烤等。
http://www.tongzonemask.com/se.asp?nowmenuid=500077
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11楼2011-12-11 20:01:58
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