| 查看: 3092 | 回复: 2 | |||
[交流]
【请教】直流磁控溅射中的偏压 已有2人参与
|
|
直流磁控溅射中偏压的意义和作用是什么 如果不打开偏压电源对成膜有什么影响 直流磁控溅射如何加偏压？（原理） 加偏压对成膜有什么影响 谢谢 |
回复此楼» 猜你喜欢
修改论文，如何借助其他力量？
已经有4人回复
-
中山大学潘越教授课题组2027级推免硕士研究生招生 新增一个专业医学技术名额
已经有21人回复
-
无机化学论文润色/翻译怎么收费?
已经有76人回复
-
哈尔滨工程大学国家级青年人才-27年申请考核制博士招生（材料、化学、生物医学专业）
已经有13人回复
-
HRTEM/原位TEM/HRSTEM检测｜价格优·周期短·可加急
已经有0人回复
-
大家平时也可以交流下
已经有1人回复
-
ELSEVIER旗下投稿decision in process后with editor，应该如何理解
已经有45人回复
» 本主题相关价值贴推荐，对您同样有帮助:
- 反应磁控溅射自偏压太高是问什么？
已经有5人回复
- 磁控溅射能起辉，但不能沉积
已经有21人回复
- 直流磁控溅射 溅射无法起弧 靶材刻蚀严重
已经有13人回复
- 射频磁控溅射镀金属靶材如何建立自偏压？
已经有5人回复
- 直流磁控溅射镀膜总是被氧化
已经有42人回复
- 做磁控溅射的朋友请进
已经有10人回复
- 【交流】磁控溅射中阳极罩与靶材之间的距离选择
已经有11人回复
- 【求助】请教磁控溅射金属膜问题
已经有23人回复
- 【求助】射频溅射反射功率过高，不起辉，无自偏压
已经有12人回复
- 【交流】咨询磁控溅射负偏压问题
已经有5人回复
- 【求助】求助：磁控溅射问题
已经有20人回复
- 【求助】磁控溅射偏压为什么加不上
已经有12人回复
|
1.直流溅射一般不用加偏压，所以我不知道你问的问题对不对，我就说说交流（射频）溅射的偏压原理。标准的射频电源应该是一个余玄电源，也就是正的半周期和负的半周期是完全对称的，所以在正的半周期电子在电场作用下向靶材移动，负的半周期下正离子向靶材移动，由于他们所受的电场力大小是相同的（因为带电大小一样），但由于他们质量不同，所以他们的加速度不一样大小，移动速度也就不一样大小，所以在两个半周期内到达靶表面的电子数到大于正粒子数，由于射频一般是用在绝缘靶上，这样在靶上就产生了电荷积累，而电荷积累产生的电势相当于在交流电源上叠加了一个直流偏压，就使正半周期和负半周期不一致，正半周期减小而负半周期增加，从而到达靶表面的的电子数减小而正离子数增加，最终达到一个平衡状态，在一个周期内到达靶表面的电子数和正离子数一样多，从而溅射达到一个稳定的状态。这时候由于在靶表面的电子积累而产生的电压就是直流自偏压。 2. 不打开偏压就没法溅射绝缘材料，道理看了上面的应该会明白。 3。直流磁控溅射为什么要加偏压呢，我没加过。 4。加偏压之后会改变离子的动能，所以也会影响到成膜，至于具体如何影响，不能一概而论，建议多看看文献。 [ Last edited by cjw796 on 2010-7-12 at 15:48 ] |
2楼2010-07-12 15:42:17
380677864
木虫 (正式写手)
- 应助: 0 (幼儿园)
- 金币: 2121.9
- 散金: 479
- 帖子: 423
- 在线: 178.4小时
- 虫号: 1093260
- 注册: 2010-09-08
- 性别: GG
- 专业: 电工材料特性及其应用
3楼2010-09-15 08:08:11
