【求助】磁控溅射靶材与衬底的距离 - 物理 - 凝聚态物理

yinzhiminghao

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2楼2010-01-29 18:51:47

tmxkzk

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我觉得距离越小，镀膜厚度应该越大，但是可能太近了影响镀膜的质量。

3楼2010-01-29 21:19:16

元小雪

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可以去看看田民波的那本厚的《薄膜材料》

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无聊的博士

4楼2010-01-29 21:54:17

yjyang07

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引用回帖:

Originally posted by sailor529 at 2010-01-29 13:26:14:
请教：靶材与衬底的距离对镀膜有什么影响，如何表现，又是如何影响的呢？或推荐些可以学习的资料，谢谢

太近了薄膜的粗糙度很大薄膜质量下降
另外可能造成自溅射情况

天行健，君子以自强不息～～～～～

5楼2010-01-29 21:59:00

physics鱼

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应该服从空间高斯分布，不是越近越好，那样颗粒度太大，容易引进缺陷，在一个适当的距离上，才能既保证产率，又保证质量

琴瑟友之

6楼2010-01-29 22:15:06

cjw796

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靶材和衬底的间距会影响到溅射原子的动能，对薄膜的形貌，织构，晶粒大校等都会产生影响，关于学习资料，推荐看看英文原版书籍，关于薄膜沉积的书很多的，可以自己到网上搜搜，或者去图书馆找。

引用回帖:

7楼2010-01-29 22:34:28

floljf

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溅射方面的书很多，唐伟忠老师的《薄膜材料的制备、分析及应用》中的第三张介绍的很详细，田民波的老师《薄膜材料与薄膜技术》也不错的，可以去看看。

8楼2010-01-30 08:49:22

深海一尾鱼

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针对影响多层膜性能的关键因素———膜厚控制误差进行了全面的分析计算,指出影响多层膜性能的主要误差是仪器本身的系统偏差,它使多层膜的峰值反射波长偏离设计值,使得制作出的多层膜无法满足要求;镀膜过程中的随机误差使多层膜的反射率降低,但不影响多层膜峰值反射率波长的位置,因此,在制作多层膜过程中,不但要严格控制镀膜时的系统误差,而且要控制随机误差。

潇洒走一生

9楼2010-01-30 18:16:25

深海一尾鱼

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溅射镀膜技术由于溅射原子能量高薄膜附着力大成膜致密性好等优点"被广泛用于各种材料薄膜的制备辉光放电靶材溅射溅射原子输运及薄膜生长等过程是溅射镀膜中关键的物理过程"它们相互影响"共同决定薄膜的性能靶材溅射及溅射原子输运到衬底时的能量入射角及入射位置直接影响着薄膜的生长过程"对薄膜的均匀性$致密性及附着力等性能有着重要影响

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潇洒走一生

10楼2010-01-30 18:19:04