【求助】磁控溅射靶材与衬底的距离 - 物理 - 凝聚态物理

11楼2010-02-02 13:42:13

rfxu

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12楼2010-02-03 20:47:27

yinzhiminghao

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13楼2010-02-04 00:35:29

yangfengfan888

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他有一个最佳的距离，好像是2R,可以看杨邦朝的《薄膜物理/技术》

14楼2010-02-19 09:29:07

shenyang_c

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刚接触磁控溅射，帮顶起来！受益了！

15楼2010-04-20 15:49:24

66451093

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sailor529(金币+1): 2010-04-22 09:10

首先影响的建设速率，远了溅射速率慢，靶材成分的原子的平均自由程在一定的温度下是一定的，靶材和基底离太远，靶材分子容易和其他分子碰撞到达不了沉底，而且即使到达基底以后，由于能量较小了，在基底表面的扩散能力很低，所以导致成膜质量和不好，再就是由于各个方向溅射的分子速率不一样，对薄膜的厚度也造成影响。

16楼2010-04-21 15:17:19

sailor529

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17楼2010-04-21 21:31:25

66451093

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sailor529(金币+1): 2010-04-22 09:10

引用回帖:

Originally posted by sailor529 at 2010-04-21 21:31:25:

太远也不至于吧，仪器制备时肯定考虑了这个原因，在仪器可调的范围内，有些样品距离远时反而成膜质量好。。。。

制备任何薄膜时都肯定有个最佳距离，但是这个最佳距离的把握现在即使是同一种膜由于氛围的不一样也不好把握，即使是文献里面报道过的薄膜可重复操作性也不一定怎么样，但是从理论来解释的话就只能这么解释了。

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18楼2010-04-21 22:50:43

FePt

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推荐《薄膜物理》

以我多年经验建议，多做实验，多摸索，这个东西要靠经验的

引用回帖:

Originally posted by sailor529 at 2010-01-29 13:26:14:
请教：靶材与衬底的距离对镀膜有什么影响，如何表现，又是如何影响的呢？或推荐些可以学习的资料，谢谢

19楼2010-04-22 10:24:41

tickychao206

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这个不同溅射仪的最佳靶基距不同，既根据高斯分布原理，也与经验参数有关。我们做实验选取的靶基距，由溅射仪操作人员推荐，以获得高质量与高溅射速率。个人愚见！

正心修身！

20楼2010-04-30 09:35:48