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lwb870525木虫 (著名写手)
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射频磁控溅射中的靶材自偏压是怎么形成的？（假如放电气体为Ar） 已有4人参与
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要沉积薄膜的基底放在阳极，靶材放在阴极。当射频电源在两电极间加上电场后： 1、射频电源在正周期提供的电场，使得Ar+向靶材（阴极）加速运动并撞击靶材，与此同时电子向基底（方向）运动，但是由于靶材背面的磁场的洛伦兹力作用，其被限制在了靶材表面附近，提高了等离子体的密度； 2、射频电场在负周期时，阳极和阴极两电极的电场方向发生变化，Ar+会减速向靶材运动，而电子则会加速向靶材（阴极）运动。 以上关于射频电场周期性变化时，Ar+和电子在两电极间的运动描述，是不是对的？ 靶材的自偏压又是如何形成的？ 请大神解释下，谢谢！ |
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 薄膜制备与特性 | 薄膜材料和器件制备 |
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