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【求助】ZnO的磁控溅射
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实验室有台直流磁控溅射设备，打算利用起来溅射ZnO薄膜。 想请教一下，用磁控溅射的话是用ZnO靶材好呢，还是用Zn靶? 如果用Zn靶的话，是不是需要通入氩气和氧气，调节制备ZnO。 用ZnO的话是不是就不用氧气了，但是ZnO靶材可以用在直流磁控溅射中吗？ （不是射频溅射） 另外打听一下，一个圆靶材（3寸）大概需要多少钱？ 怎么有的报价2000，有的才3-500？ |
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