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如何消除光刻胶溶液中百纳米量级的小气泡
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fengye0909
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虫号: 600175
注册: 2008-09-12
性别:
MM
专业: 半导体晶体与薄膜材料
[
求助
]
如何消除光刻胶溶液中百纳米量级的小气泡
已有6人参与
各位高手,我配制的光刻胶出现100-200nm左右的针孔问题,我极其怀疑是胶液里出现了极小气泡造成的,使用过过滤,超声方法,仍旧无法消除,请高手指点,不胜感激!
[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
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1楼
2015-06-27 16:54:51
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shenailin
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2015-07-02 21:31:49
fengye0909: 金币+5,
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2015-07-02 21:43:55
我们课题组处理类似事情的办法就是抽真空之后静置较长时间,一般是8小时左右可以有效减少气泡出现的情况
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8楼
2015-06-30 22:06:49
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shenailin
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专业: 光学
具体是哪一步产生的气泡核实过吗?不同的步骤阶段都有特定原因!
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15楼
2015-07-06 16:31:18
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