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盐酸做 ITO 腐蚀,AZ5214光刻胶做掩膜
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| 各位大侠,请问如果需要把表面 ITO film 腐蚀掉,留下一些 ITO pattern, 宽度大概是 10um--100um 范围,需要腐蚀掉的区域也是这个量级以形成绝缘分隔区。据说光刻胶一般都抗酸碱,不知道有没有做过这方面实验朋友。实验室有AZ5214和9360两种胶。先谢谢各位了! |
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