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盐酸做 ITO 腐蚀，AZ5214光刻胶做掩膜
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| 各位大侠，请问如果需要把表面 ITO film 腐蚀掉，留下一些 ITO pattern， 宽度大概是 10um--100um 范围，需要腐蚀掉的区域也是这个量级以形成绝缘分隔区。据说光刻胶一般都抗酸碱，不知道有没有做过这方面实验朋友。实验室有AZ5214和9360两种胶。先谢谢各位了！ |
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5楼2013-12-13 11:13:49
yswyx 
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4楼2013-12-03 14:31:05
40