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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳器件 » 盐酸做 ITO 腐蚀，AZ5214光刻胶做掩膜
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qingmingchen

铁虫 (初入文坛)

[求助] 盐酸做 ITO 腐蚀，AZ5214光刻胶做掩膜

各位大侠，请问如果需要把表面 ITO film 腐蚀掉，留下一些 ITO pattern， 宽度大概是 10um--100um 范围，需要腐蚀掉的区域也是这个量级以形成绝缘分隔区。据说光刻胶一般都抗酸碱，不知道有没有做过这方面实验朋友。实验室有AZ5214和9360两种胶。先谢谢各位了！
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1楼 2013-12-02 09:48:28
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qingmingchen

铁虫 (初入文坛)
引用回帖:
2楼: Originally posted by yswyx at 2013-12-02 12:16:20
光刻胶都不抗碱，只能一定成都上抗酸。
9360的抗酸能力要好一些。

搞错了，是9260.不好意思。
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3楼2013-12-02 22:29:44
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yswyx

专家顾问 (著名写手)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
124685887: 专家考核, 谢谢 2013-12-02 16:32:59
光刻胶都不抗碱，只能一定成都上抗酸。
9360的抗酸能力要好一些。
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2楼2013-12-02 12:16:20
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yswyx

专家顾问 (著名写手)
引用回帖:
3楼: Originally posted by qingmingchen at 2013-12-02 22:29:44
搞错了，是9260.不好意思。...

9260可以，很难买倒是真的。
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4楼2013-12-03 14:31:05
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qingmingchen

铁虫 (初入文坛)
引用回帖:
4楼: Originally posted by yswyx at 2013-12-03 14:31:05
9260可以，很难买倒是真的。...

我用5214胶做了，可以做出来。不过得把握好显影时间和腐蚀时间。另外在 HCl 里面加 FeCl3 可以加快腐蚀速度。
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5楼2013-12-13 11:13:49
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