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qingmingchen

铁虫 (初入文坛)

[求助] 盐酸做 ITO 腐蚀,AZ5214光刻胶做掩膜

各位大侠,请问如果需要把表面 ITO film 腐蚀掉,留下一些 ITO pattern, 宽度大概是 10um--100um 范围,需要腐蚀掉的区域也是这个量级以形成绝缘分隔区。据说光刻胶一般都抗酸碱,不知道有没有做过这方面实验朋友。实验室有AZ5214和9360两种胶。先谢谢各位了!
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qingmingchen

铁虫 (初入文坛)

引用回帖:
2楼: Originally posted by yswyx at 2013-12-02 12:16:20
光刻胶都不抗碱,只能一定成都上抗酸。
9360的抗酸能力要好一些。

搞错了,是9260.不好意思。
3楼2013-12-02 22:29:44
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yswyx

专家顾问 (著名写手)


【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
124685887: 专家考核, 谢谢 2013-12-02 16:32:59
光刻胶都不抗碱,只能一定成都上抗酸。
9360的抗酸能力要好一些。
2楼2013-12-02 12:16:20
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yswyx

专家顾问 (著名写手)


引用回帖:
3楼: Originally posted by qingmingchen at 2013-12-02 22:29:44
搞错了,是9260.不好意思。...

9260可以,很难买倒是真的。
4楼2013-12-03 14:31:05
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qingmingchen

铁虫 (初入文坛)

引用回帖:
4楼: Originally posted by yswyx at 2013-12-03 14:31:05
9260可以,很难买倒是真的。...

我用5214胶做了,可以做出来。不过得把握好显影时间和腐蚀时间。另外在 HCl 里面加 FeCl3 可以加快腐蚀速度。
5楼2013-12-13 11:13:49
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