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溅射的靶材烧成这样子，请各位帮我看看是什么原因
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我的靶材是NiMnGa合金，直流电源功率是100W，溅射气压0.5Pa。本来是打算溅射1h，结果才溅射了30min，机器就提示没有等离子体了，无法完成程序。打开腔室，取下靶材就发现变成烧成如图的模样了。另外我放了NaCl，硅片，玻璃，旋涂了PMMA的硅片，还有云母片这几种衬底放在托盘上待沉积。 20130306_162704.jpg  20130306_162618.jpg |
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yao366: 金币+50, ★★★很有帮助 2013-03-08 13:22:30
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你的东西掉在靶材上，为什么啊？不大明白你的意思，你给的这些信息不是很全。没办法回答你。具体很多东西你可以自己分析的。 托盘热那是因为你的样品架没有冷却，跟靶材没有任何关系。plasma本来就是有能量的，长期轰击一个地方必然导致那里发热。 具体金币 怎么给，万事不难，看你有没有这个心了哦 |
10楼2013-03-08 11:10:09
