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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 功能材料 » 功能薄膜 » 溅射的靶材烧成这样子，请各位帮我看看是什么原因
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yao366

新虫 (小有名气)

[求助] 溅射的靶材烧成这样子，请各位帮我看看是什么原因

我的靶材是NiMnGa合金，直流电源功率是100W，溅射气压0.5Pa。本来是打算溅射1h，结果才溅射了30min，机器就提示没有等离子体了，无法完成程序。打开腔室，取下靶材就发现变成烧成如图的模样了。另外我放了NaCl，硅片，玻璃，旋涂了PMMA的硅片，还有云母片这几种衬底放在托盘上待沉积。

20130306_162704.jpg



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1楼 2013-03-06 19:35:35
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dearhanzi

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
chemlh: 欢迎积极交流 2013-03-08 08:34:27
初步判定你这个市冷却不好造成的，尤其是烧焦的部位，明显的呈现晶粒化，其他地方没有，说明这里的温度很高。具体原因你自己去找，别人不了解细节，没办法给你回答。
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3楼2013-03-07 14:02:59
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yao366

新虫 (小有名气)
怎么没人帮我解答解答啊，难道我问错地方了？
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2楼2013-03-07 00:05:02
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dearhanzi

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

★
chemlh: 金币+1, 欢迎积极交流 2013-03-08 08:34:37
建议你在靶材和底座之间加两层石墨粘等导热性好的东西，这样或许对你有帮助。按照靶材的时候也要用力均匀，否则歪了也会导致导热不均。
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4楼2013-03-07 14:06:37
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houlucky

木虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
chemlh: 欢迎积极交流 2013-03-08 08:34:45
3楼正解，除此之外还要注意靶的安装位置。
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5楼2013-03-07 20:39:08
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