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溅射的靶材烧成这样子,请各位帮我看看是什么原因
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我的靶材是NiMnGa合金,直流电源功率是100W,溅射气压0.5Pa。本来是打算溅射1h,结果才溅射了30min,机器就提示没有等离子体了,无法完成程序。打开腔室,取下靶材就发现变成烧成如图的模样了。另外我放了NaCl,硅片,玻璃,旋涂了PMMA的硅片,还有云母片这几种衬底放在托盘上待沉积。 20130306_162704.jpg 20130306_162618.jpg |
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houlucky
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yao366: 金币+50, ★★★很有帮助 2013-03-08 13:22:30
yao366: 金币+50, ★★★很有帮助 2013-03-08 13:22:30
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你的东西掉在靶材上,为什么啊?不大明白你的意思,你给的这些信息不是很全。没办法回答你。具体很多东西你可以自己分析的。 托盘热那是因为你的样品架没有冷却,跟靶材没有任何关系。plasma本来就是有能量的,长期轰击一个地方必然导致那里发热。 具体金币 怎么给,万事不难,看你有没有这个心了哦 |
10楼2013-03-08 11:10:09







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dearhanzi