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溅射的靶材烧成这样子，请各位帮我看看是什么原因
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我的靶材是NiMnGa合金，直流电源功率是100W，溅射气压0.5Pa。本来是打算溅射1h，结果才溅射了30min，机器就提示没有等离子体了，无法完成程序。打开腔室，取下靶材就发现变成烧成如图的模样了。另外我放了NaCl，硅片，玻璃，旋涂了PMMA的硅片，还有云母片这几种衬底放在托盘上待沉积。 20130306_162704.jpg  20130306_162618.jpg |
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