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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 专业学科区 » 物理 » 凝聚态物理 » 有关负光刻胶在光刻时候的一些问题
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跳水の兔

新虫 (初入文坛)

[求助] 有关负光刻胶在光刻时候的一些问题 已有1人参与

原来一直用正胶的，前两天换了负胶（RFZ220），于是问题接连不断……
今天做刻蚀，那个剥离液的味道实在是不能忍啊…………有谁知道剥离液的化学成分吗？
另外，做完之后清洗基片依然和原来一样用的丙酮、酒精，但现在发现丙酮根本洗不掉（或者说洗不干净）。负光刻胶应该怎么清洗？
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1楼 2012-11-24 22:26:50
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梦回盛唐

铁杆木虫 (职业作家)

【答案】应助回帖

有答案了吗？朋友

[ 发自小木虫客户端 ]
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3楼2014-10-17 00:18:06
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soledad阿杰

新虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

这么难闻？莫非是DMF
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2楼2013-01-23 15:21:20
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