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sarahzyp版主
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[求助]磁控溅射设备中的强磁靶接射频电源是否会对靶位造成损伤？
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我们用的是沈科仪的JGP-560B磁控溅射设备，曾经自己改装过，就是有一个强磁靶位本来接的是直流电源，改接成射频电源，溅射SiN了两三回，每次溅射约20分钟，之后接回直流溅射钼，溅射时间为1小时。现在发现靶面有伤痕，不知道是哪次造成的，不知是否是射频电源对靶位造成的损伤？还是直流溅射的时间太长了？强磁靶接射频电源是否会对靶位造成损伤？ IMG_20120921_091837.jpg |
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sarahzyp
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【答案】应助回帖
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sarahzyp: 金币+10, ★有帮助 2012-10-08 21:38:36
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sarahzyp: 金币+10, ★有帮助 2012-10-08 21:38:36
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想了解以下几个问题： 1. 楼主所谓的靶面伤痕对应的是照片上什么位置？能否将镀膜之前未有伤痕的靶面也贴出来对比一下？ 2. 改接射频电源前是否测量过强磁靶的阻抗以及有否调匹配？ 一般说来，直流靶和射频靶之间都是可以相互转换的，而且既然你改接射频源能够起辉镀膜，可见的确功率都加到了靶上！即使因为阻抗不匹配，最多也是射频电源的反射功率比较大容易伤电源而已！个人不觉得伤痕是射频源造成的！ |
2楼2012-09-21 12:56:28
bailusge
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