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sarahzyp

金虫 (小有名气)

[求助] [求助]磁控溅射设备中的强磁靶接射频电源是否会对靶位造成损伤?

我们用的是沈科仪的JGP-560B磁控溅射设备,曾经自己改装过,就是有一个强磁靶位本来接的是直流电源,改接成射频电源,溅射SiN了两三回,每次溅射约20分钟,之后接回直流溅射钼,溅射时间为1小时。现在发现靶面有伤痕,不知道是哪次造成的,不知是否是射频电源对靶位造成的损伤?还是直流溅射的时间太长了?强磁靶接射频电源是否会对靶位造成损伤?

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leongoall

专家顾问 (知名作家)

P-M-I之初生牛犊

【答案】应助回帖

引用回帖:
5楼: Originally posted by sarahzyp at 2012-09-24 08:29:16
中间那三段弧形就是伤痕;
没测量过强磁靶的阻抗;
改接以后第一次没有调匹配,溅射了大约20分钟,有较微弱的辉光,会不会就是那一次造成的?...

较微弱的辉光说明功率还是能加到靶上面形成等离子体的,但多少就不好说了,有可能大部分消耗在导线上。我想再确定一下,射频加的功率多大?钼靶有没有被击穿?

从你给的照片看,伤痕感觉就像靶上面被磁场转弯加速的离子轰击的痕迹,如果钼靶没有被击穿,有可能是射频功率大部分消耗在传输过程中,这样你照片中的铜温度本身就很高,加上你整个溅射过程中(射频以及直流)钼靶受离子轰击区域传导过来的热量,可能让铜出现变形。于是可以猜想,如果照片中的加载钼靶的铜表面绝对水平的话,出现的不应该是三段弧形,而应该是一整个环形。
趁年轻,多折腾!曾年轻,折腾过?!
8楼2012-09-24 12:47:50
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leongoall

专家顾问 (知名作家)

P-M-I之初生牛犊

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
感谢参与,应助指数 +1
华丽的飘过: 金币+3, 3q 2012-09-22 23:12:12
sarahzyp: 金币+10, 有帮助 2012-10-08 21:38:36
想了解以下几个问题:
1. 楼主所谓的靶面伤痕对应的是照片上什么位置?能否将镀膜之前未有伤痕的靶面也贴出来对比一下?
2. 改接射频电源前是否测量过强磁靶的阻抗以及有否调匹配?

一般说来,直流靶和射频靶之间都是可以相互转换的,而且既然你改接射频源能够起辉镀膜,可见的确功率都加到了靶上!即使因为阻抗不匹配,最多也是射频电源的反射功率比较大容易伤电源而已!个人不觉得伤痕是射频源造成的!
趁年轻,多折腾!曾年轻,折腾过?!
2楼2012-09-21 12:56:28
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bailusge

木虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
什么样子的伤痕?
在别人贪婪时我们应该恐惧,在别人恐惧时我们应该贪婪
3楼2012-09-21 13:53:37
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shadowtiger

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

★ ★ ★
感谢参与,应助指数 +1
华丽的飘过: 金币+3, 3q 2012-09-22 23:12:22
这个看上去很像溅射靶材打穿后造成的损伤。
建议以后溅射的时候可以在靶材和溅射靶之间垫一块0.2mm厚的纯铜片。就算损伤,也是损伤铜片。
4楼2012-09-22 21:25:34
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