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反映磁控溅射相关问题
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haode22
金虫
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[交流]
反映磁控溅射相关问题
各位大侠:
反映磁控溅射可不可以这样做:射频溅射金属如(Al),同时加热非金属如(碘)产生反应气体,溅射气体为Ar,由于没有现成的碘气体,于是我想采用这样的方案,不知可行否?
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1楼
2011-08-31 13:58:01
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poohpan
银虫
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★
haode22(金币
+1
):谢谢参与
haode22(金币+1): Al我就是采用的RF溅射,关于靶中毒,可否按你的想法详细说明? 2011-09-01 21:13:00
结果肯定能实现 但是实验结果你想得到什么呢?Al-I?··· 如果试的话 Al应该用射频靶试试 免得引起靶中毒什么的 再有真空设备污染肯定很大
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8楼
2011-09-01 15:49:11
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wukong6170
铁杆木虫
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★
haode22(金币
+1
):谢谢参与
haode22(金币+1): 呵呵,不要老想到用金属腔体,管道等,接头是耗材嘛 2011-09-01 10:00:43
那溅射的设备不是被碘腐蚀了?
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2楼
2011-08-31 19:47:31
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COXEM
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haode22(金币
+1
):谢谢参与
haode22(金币+1): 我觉得这样的设备应该有很多 2011-09-01 10:01:15
这个有点意思,溅射 蒸发一体机,同时用。确实比较牛的想法。先把基本原理,几何位置摆布开来,然后试验它一把,如果你这个需求比较典型,这个小设备可以申请专利。
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3楼
2011-08-31 23:13:04
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fegnzaixie
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★
haode22(金币
+1
):谢谢参与
是啊是啊设备能不能被破坏了啊
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4楼
2011-08-31 23:16:14
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