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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 合成表征 » 做磁控溅射的朋友请进
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rulerskp

金虫 (小有名气)

[求助] 做磁控溅射的朋友请进

跪求高手赐教，磁控溅射过程中入射离子能量是如何计算的？比如采用Ar作为工作气体，此时Ar+到达靶材表面的能量是如何计算？
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1楼 2011-07-17 10:28:21
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inventor110

铜虫 (小有名气)
这个 和多种参数有关，如果是直流溅射的话，显然和电流电压有关，交流的话和射频功率有关。另外和真空度以及靶盖和靶罩的间距有也有很大关系，如果要具体算这个入射离子能量有较多大，需要考虑的因素很多！
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博学笃志，格物明德~
9楼2012-03-27 18:21:44
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csuchenli927

金虫 (小有名气)

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★
wandaohzl(金币+1): 鼓励应助 2011-07-17 12:16:17
基体电压就是单个离子的溅射能量
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2楼2011-07-17 12:08:19
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csuchenli927

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

★
wandaohzl(金币+1): 鼓励应助 2011-07-17 12:16:24
引用回帖:
Originally posted by csuchenli927 at 2011-07-17 12:08:19:
基体电压就是单个离子的溅射能量

就是离子在电场中运动获得的能量，当然可能因为在运动过程中受其它粒子的碰撞有一些损失，但在磁控溅射的高真空环境中，基本可忽略。
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3楼2011-07-17 12:13:05
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rulerskp

金虫 (小有名气)
引用回帖:
Originally posted by csuchenli927 at 2011-07-17 12:13:05:
就是离子在电场中运动获得的能量，当然可能因为在运动过程中受其它粒子的碰撞有一些损失，但在磁控溅射的高真空环境中，基本可忽略。

这个跟基体电压没有关系吧，我指的是Ar+到达靶材表面的能量，难道说是靶电压么？这其中的放电过程产生的能量对Ar+到达靶表面的能量有影响吗？
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4楼2011-07-17 13:52:54
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