| 查看: 2384 | 回复: 6 | |||
[交流]
【求助】请问一下光刻胶是什么东西？成分是什么？
|
| 那位大牛知道是什么东西？ |
回复此楼» 猜你喜欢
把心放稳，生活自会给你答案
已经有0人回复
-
你真正的底气，是悄悄努力的每一天
已经有0人回复
-
生物物理、生物化学与分子生物学论文润色/翻译怎么收费?
已经有232人回复
-
求助文章是否已经被EI收录
已经有1人回复
-
斑马鱼孵化求助
已经有0人回复
-
投稿Elsevier的Neoplasia杂志，到最后选publishing options时页面空白，不能完成投稿
已经有23人回复
-
生物学-微生物学-博士申请，有分子生物学、发酵工程、生物信息学等基础
已经有1人回复
-
悉尼大学 AMME 机械工程 双ARC Future Fellows团队招收CSC博士生
已经有25人回复
-
2026 法国csc 个人渠道招聘。计算机/生物信息/evolution/network优先
已经有0人回复
» 本主题相关价值贴推荐，对您同样有帮助:
- AZ 4620 光刻胶在常温下放久之后会影响些什么性能
已经有14人回复
- 请问因子分析的作用是什么？它与主成分分析图是否有相关性？
已经有4人回复
- 请教一个最基础的问题，大豆油等油类成分是什么？
已经有5人回复
- 如何知道制作的金属氧化物到底是什么成分呢
已经有10人回复
- 请问目前水稻育秧盘的主要成分是什么？
已经有3人回复
- 【求助】请问石油冶炼的废弃物是什么成分啊？
已经有10人回复
- 【求助】谁能帮我分析一下我的样品的XRD的峰是什么成分
已经有3人回复
- 【讨论】请问哪位前辈知道跳跳糖的主要成分是什么？
已经有6人回复
- 【求助/交流】讨论一下培养基成分与真菌形态的问题
已经有11人回复
» 抢金币啦！回帖就可以得到:
-
南佛罗里达大学化学系刘文奇课题组 2026 Fall 招收有机/超分子方向博士生
+2/926
-
海南大学专任教师招聘：海洋工程与海洋智能装备相关方向【长期有效】
+2/124
-
西南大学化学化工学院彭云贵教授课题组招有机化学博士研究生
+2/112
-
大连理工大学智能系统实验室优秀硕博研究生招生
+1/80
-
深圳大学张雷教授课题组诚聘博士后
+1/79
-
上海交通大学变革分子学中心申涛课题组2026秋季入学推荐-考核制博士招生（有机）
+1/77
-
北京大学季者课题组招聘博士后和科研助理/化学/化生/生命科学/物理/工程等
+1/76
-
南昌大学化学化工学院付拯江教授拟招收“申请-考核”制博士研究生
+1/75
-
信息工程大学教授团队网络空间安全专业博士招生【2026年1月31日报名截止】
+1/73
-
东北林业大学刘松教授课题组长期招收博士、博士后
+1/31
-
【教授本人】南佛罗里达大学化学系刘文奇课题组 2026 Fall 招收有机/超分子方向博士生
+1/29
-
专科起点双非硕士，申博求建议
+1/20
-
中国地质大学（武汉）分析地球化学团队招收博士生1名、硕士生3名
+2/16
-
93年坐标北京，征女友
+1/15
-
复旦大学2026年博士研究生，“药学 + 合成生物学”
+1/5
-
中南民族大学-国家级领军人才团队超支化聚合物方向2026年博士研究生招生
+1/4
-
南开大学齐迹课题组诚聘分子生物学、免疫学、有机分子合成相关方向的博士后、博士硕士
+1/3
-
哈工大（深圳）赵旭东院士团队（能源与动力）招收博士后2名
+1/3
-
生殖医学与子代健康全国重点实验室华鹏课题组招收博士后及研究生(长期有效)
+1/1
-
★★★中山大学院士团队招收26级博士生：低维材料与器件、材料/物理/电子/生医等背景
+1/1
2楼2011-03-11 13:13:44
3楼2011-03-11 19:03:00
集成电路制作中光刻工艺的必需品
★
lixiangde(金币+1): 感谢回帖交流 2011-03-28 16:57:29
zhao9277(金币+1): 2011-03-29 15:52:44
zhao9277(金币+1): 2011-03-31 16:10:46
lixiangde(金币+1): 感谢回帖交流 2011-03-28 16:57:29
zhao9277(金币+1): 2011-03-29 15:52:44
zhao9277(金币+1): 2011-03-31 16:10:46
|
光刻工艺的进行必须借助光刻胶将印在掩膜上的图形结构转移到硅片表面上。光刻胶指光照后能具有抗蚀能力的高分子化合物，用于在半导体基件表面产生电路的形状。其配方通常是一个复杂的体系，主要包括感光物质（PAC）、树脂和一些其他利于使用的材料如稳定剂、阻聚剂、粘度控制剂、染料、增塑剂和化学增溶剂等。 通常我们把常用的光刻胶可分为正光刻胶和负光刻胶两种。①正光刻胶：受光照部分发生降解反应而能为显影液所溶解。留下的非曝光部分的图形与掩模版一致。②负光刻胶：受光照部分产生交链反应而成为不溶物，非曝光部分被显影液溶解，获得的图形与掩模版图形互补。正光刻胶具有分辨率高、对驻波效应不敏感、曝光容限大、针孔密度低和无毒性等优点，适合于高集成度器件的生产。负光刻胶的附着力强、灵敏度高、显影条件要求不严，适于低集成度的器件的生产。 在半导体产业中，正型光刻胶的销售额大概是负型光刻胶的100倍，这是因为正型光刻胶具有更高的分辨率，可以用于微小精细的电路，同时，正型光刻胶与等离子干法刻蚀技术的相容性也更好一些。 |
4楼2011-03-28 15:28:52
zhao9277(金币+2): 2011-03-31 16:10:40
|
光刻胶（又称光致抗蚀剂），是指通过紫外光、准分子激光、电子束、离子束、X射线等光源的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料。 根据曝光前后胶膜溶解性质的变化可分为正型光刻胶和负型光刻胶，曝光后溶解度增大的为正型光刻胶，溶解度减小的为负型光刻胶。光刻胶主要用于半导体集成电路和分立器件的微细加工，液晶显示面板的制作，同时在LED、封装、磁头及精密传感器等制作过程中也有着广泛的应用。由于光刻胶具有光化学敏感性，可利用其进行光化学反应，将光刻胶涂覆半导体、导体和绝缘体上，经曝光、显影后留下的部分对底层起保护作用，然后采用蚀刻剂进行蚀刻就可将所需的细微图形从掩模版转移到待加工的衬底上。因此光刻胶是微细加工技术中的关键性化工材料。 光刻胶是一种聚合可溶解物被涂在衬底表面。 正胶一般由感光剂、高分子化合物（通常用线型酚醛树脂）、溶剂为主要成分及为了改善胶的某一方面性能所加入的添加剂组成。 |
5楼2011-03-31 08:48:28
6楼2012-01-09 19:03:26
7楼2014-10-06 10:21:18