| 查看: 2495 | 回复: 6 | |||
[交流]
【求助】请问一下光刻胶是什么东西？成分是什么？
|
| 那位大牛知道是什么东西？ |
回复此楼» 猜你喜欢
总分343，求生物学调剂
已经有2人回复
-
生物与医药专硕，一志愿山东大学，初试成绩338，求调剂
已经有0人回复
-
生物力学与组织工程学论文润色/翻译怎么收费?
已经有56人回复
-
考研292求调剂
已经有9人回复
-
安徽大学专硕生物与医药专业(086000)324分，英语已过四六级，六级521，求调剂
已经有4人回复
-
生物学308分求调剂（一志愿华东师大）
已经有1人回复
-
大连医科大学肿瘤干细胞研究院 招收生物化学与分子生物学专业硕士研究生
已经有0人回复
-
招考研调剂生
已经有0人回复
-
生物学308（一志愿华东师大）求调剂
已经有2人回复
» 本主题相关价值贴推荐，对您同样有帮助:
- AZ 4620 光刻胶在常温下放久之后会影响些什么性能
已经有14人回复
- 请问因子分析的作用是什么？它与主成分分析图是否有相关性？
已经有4人回复
- 请教一个最基础的问题，大豆油等油类成分是什么？
已经有5人回复
- 如何知道制作的金属氧化物到底是什么成分呢
已经有10人回复
- 请问目前水稻育秧盘的主要成分是什么？
已经有3人回复
- 【求助】请问石油冶炼的废弃物是什么成分啊？
已经有10人回复
- 【求助】谁能帮我分析一下我的样品的XRD的峰是什么成分
已经有3人回复
- 【讨论】请问哪位前辈知道跳跳糖的主要成分是什么？
已经有6人回复
- 【求助/交流】讨论一下培养基成分与真菌形态的问题
已经有11人回复
» 抢金币啦！回帖就可以得到:
-
陕西理工大学资源与环境、材料化工部分调剂名额，理工兼收
+1/188
-
青岛大学功能纺织品与先进材料研究院2026硕士研究生招生调剂
+1/91
-
东莞理工土木工程和土木水利专业硕士接受调剂
+1/90
-
焊接专业应届毕业生招聘
+1/81
-
讲师身份申请面上项目中标率有影响吗
+1/74
-
国自然面上祈福
+1/71
-
烟台大学环境与材料工程学院先进储能材料与器件课题组招收材料方向硕士
+2/38
-
上海大学 “生物有机电子材料及器件”团队硕士、博士研究生招聘
+1/35
-
欢迎08开头或部分07开头的有缘人报考
+1/33
-
澳大利亚昆士兰大学化工学院招收全奖博士生2名
+1/26
-
西南科技大学杨文彬教授课题组接收材料、化工、化学专业研究生调剂
+1/20
-
西南科技大学李永升老师接收材料和化工类研究生调剂
+1/18
-
西北工业大学机电学院 复合材料加工制造方向招聘博士后
+1/15
-
西华大学材料学院表面科学与工程技术科研团队2026年招收研究生
+1/11
-
中国地质大学（武汉）清洁能源与资源循环团队诚招科研助理/2026级硕士、博士生/博士后
+1/4
-
上海交通大学陈倩栎课题组招收2026年申请-考核博士生1名（能源材料方向）
+1/4
-
本科西电通信初试310（11），求调剂，有读博打算
+1/4
-
【博士招生】上海交通大学陈倩栎课题组招收2026年申请-考核博士生1名（能源材料方向）
+1/3
-
中科院科研助理招聘
+1/2
-
香港中文大学（深圳）张舵课题组招生-高分子功能材料、智能/仿生材料、生物材料方向
+1/2
2楼2011-03-11 13:13:44
3楼2011-03-11 19:03:00
集成电路制作中光刻工艺的必需品
★
lixiangde(金币+1): 感谢回帖交流 2011-03-28 16:57:29
zhao9277(金币+1): 2011-03-29 15:52:44
zhao9277(金币+1): 2011-03-31 16:10:46
lixiangde(金币+1): 感谢回帖交流 2011-03-28 16:57:29
zhao9277(金币+1): 2011-03-29 15:52:44
zhao9277(金币+1): 2011-03-31 16:10:46
|
光刻工艺的进行必须借助光刻胶将印在掩膜上的图形结构转移到硅片表面上。光刻胶指光照后能具有抗蚀能力的高分子化合物，用于在半导体基件表面产生电路的形状。其配方通常是一个复杂的体系，主要包括感光物质（PAC）、树脂和一些其他利于使用的材料如稳定剂、阻聚剂、粘度控制剂、染料、增塑剂和化学增溶剂等。 通常我们把常用的光刻胶可分为正光刻胶和负光刻胶两种。①正光刻胶：受光照部分发生降解反应而能为显影液所溶解。留下的非曝光部分的图形与掩模版一致。②负光刻胶：受光照部分产生交链反应而成为不溶物，非曝光部分被显影液溶解，获得的图形与掩模版图形互补。正光刻胶具有分辨率高、对驻波效应不敏感、曝光容限大、针孔密度低和无毒性等优点，适合于高集成度器件的生产。负光刻胶的附着力强、灵敏度高、显影条件要求不严，适于低集成度的器件的生产。 在半导体产业中，正型光刻胶的销售额大概是负型光刻胶的100倍，这是因为正型光刻胶具有更高的分辨率，可以用于微小精细的电路，同时，正型光刻胶与等离子干法刻蚀技术的相容性也更好一些。 |
4楼2011-03-28 15:28:52
zhao9277(金币+2): 2011-03-31 16:10:40
|
光刻胶（又称光致抗蚀剂），是指通过紫外光、准分子激光、电子束、离子束、X射线等光源的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料。 根据曝光前后胶膜溶解性质的变化可分为正型光刻胶和负型光刻胶，曝光后溶解度增大的为正型光刻胶，溶解度减小的为负型光刻胶。光刻胶主要用于半导体集成电路和分立器件的微细加工，液晶显示面板的制作，同时在LED、封装、磁头及精密传感器等制作过程中也有着广泛的应用。由于光刻胶具有光化学敏感性，可利用其进行光化学反应，将光刻胶涂覆半导体、导体和绝缘体上，经曝光、显影后留下的部分对底层起保护作用，然后采用蚀刻剂进行蚀刻就可将所需的细微图形从掩模版转移到待加工的衬底上。因此光刻胶是微细加工技术中的关键性化工材料。 光刻胶是一种聚合可溶解物被涂在衬底表面。 正胶一般由感光剂、高分子化合物（通常用线型酚醛树脂）、溶剂为主要成分及为了改善胶的某一方面性能所加入的添加剂组成。 |
5楼2011-03-31 08:48:28
6楼2012-01-09 19:03:26
7楼2014-10-06 10:21:18
