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【求助】磁控反应溅射一短时间后怎么老是腔里面会怕的一声响 已有5人参与
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| 我用直流磁控溅射制备薄膜，以前用一直都很正常，几天没用，后来一用发现在以前的条件下不能起辉（工艺条件都是和以前一样），不知是什么原因造成，而且把功率调大后能起辉，起辉稳定后调回原来的功率，但是溅射一段时间后，真空腔里会隔一段时间啪的一声响（好像是漏电碰火），不知哪位仁兄知道是什么原因造成的，怎么调整。万分感谢！！！ |
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 反应磁控溅射 |
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4楼2010-05-22 07:49:48
理查德森
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2楼2010-05-21 21:03:18
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3楼2010-05-21 23:16:19
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5楼2010-05-22 18:21:22
