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582072

新虫 (初入文坛)

[交流] 【求助】磁控反应溅射一短时间后怎么老是腔里面会怕的一声响已有5人参与

我用直流磁控溅射制备薄膜,以前用一直都很正常,几天没用,后来一用发现在以前的条件下不能起辉(工艺条件都是和以前一样),不知是什么原因造成,而且把功率调大后能起辉,起辉稳定后调回原来的功率,但是溅射一段时间后,真空腔里会隔一段时间啪的一声响(好像是漏电碰火),不知哪位仁兄知道是什么原因造成的,怎么调整。万分感谢!!!
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理查德森

新虫 (小有名气)


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我也做磁控溅射 不过没出现过这个情况 你最后在实验之前 清理干净溅射仓 灰尘太多也会有影响  估计有肯能有点漏电 但不知具体怎么个响法
2楼2010-05-21 21:03:18
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quanten

金虫 (著名写手)

QQ群(NW-FET): 157220400



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你所说的是常见问题,不起辉应该是靶材表面氧化或称为靶中毒所致,这时确实加大功率可以起辉,会有响声我觉得是因为靶材中毒,电荷富集后没有及时导走形成高压区域,当电压达到一定程度会击穿,会产生响声。
3楼2010-05-21 23:16:19
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582072

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
Originally posted by 理查德森 at 2010-05-21 21:03:18:
我也做磁控溅射 不过没出现过这个情况 你最后在实验之前 清理干净溅射仓 灰尘太多也会有影响  估计有肯能有点漏电 但不知具体怎么个响法

刚开始溅射不会,一般溅射一段时间后就会不时的啪的一声,声音还挺大,但是以前都不会这样,不知道究竟是什么原因造成的。
4楼2010-05-22 07:49:48
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理查德森

新虫 (小有名气)


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Originally posted by 582072 at 2010-05-22 07:49:48:

刚开始溅射不会,一般溅射一段时间后就会不时的啪的一声,声音还挺大,但是以前都不会这样,不知道究竟是什么原因造成的。

那我也不知道了 其实我也是新手 就做过几次
5楼2010-05-22 18:21:22
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一生追求

金虫 (正式写手)


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有段时间不用,可能是腔体和靶材不太干净,你清理一下试试,预溅射时间长点
认真,谦虚
6楼2010-05-23 12:46:56
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yanzijing

金虫 (初入文坛)


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6楼: Originally posted by 一生追求 at 2010-05-23 12:46:56
有段时间不用,可能是腔体和靶材不太干净,你清理一下试试,预溅射时间长点

借问一下大侠如何清理腔体和靶材呢?
kakakakakka
7楼2014-05-05 13:03:59
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yanzijing

金虫 (初入文坛)

引用回帖:
6楼: Originally posted by 一生追求 at 2010-05-23 12:46:56
有段时间不用,可能是腔体和靶材不太干净,你清理一下试试,预溅射时间长点

借问一下大侠如何清理腔体和靶材呢?
kakakakakka
8楼2014-05-05 13:05:14
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