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frankie1

新虫 (初入文坛)

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[求助] 单晶硅基板xrd结果出现杂峰，求助！已有1人参与

普通薄膜xrd扫描，单晶硅111基板，如图所示在39度出现了一个强度很小的峰，对不上相应的晶面，不知道怎么解释！还请大牛帮助

xrd result

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1楼2015-06-21 12:12:16

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whd博士

木虫 (著名写手)

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专业: 无机非金属基复合材料

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frankie1(红舟流星代发): 金币+20, 代扣代发金币 2015-06-23 00:30:11

引用回帖:

7楼: Originally posted by frankie1 at 2015-06-22 11:41:44
确实当时也有这个疑虑，恰恰是有这些峰才让后面处理过后的实验结果产生了更多的疑虑，不过这个基板确实是单晶，而且择优取向还是比较明显的111，结果中多处峰都能通过二三级衍射峰，Kβ峰等解释清楚，唯独这个39峰 ...

是这样的，由于仪器噪声等问题，造成在测试过程中XRD图谱存在一个背底，这个背底实际上会淹没掉衍射图谱中部分小的峰。这种情况在非晶材料基底上镀膜的情况下就比较明显。你的测试数据中基底背景有200上下，这个峰的峰值也就不到四百，跟主峰相比相差实在太多。如果基体材料不作为主要研究的话，一般就给略去归到基底中了。另外，单晶样品在测试XRD的时候，对放置要求还是蛮高的，有时候存在的倾斜等放置问题，会造成峰形畸变甚至消失。另外，硅片本身的质量问题也会造成一些小的峰，这个网上有，你可以去看看。至于你样品衍射图谱，我查了下其它文献的Si（111）的衍射图谱，跟你的好像有点差别。。。。。。