24小时热门版块排行榜    

查看: 802  |  回复: 3

VIIIX

银虫 (小有名气)

[求助] 紫外曝光的掩模板怎么清洗 已有1人参与

最近有一台紫外曝光到了,有个掩模板我一看上面好脏,不但有光刻胶在上面,竟然还有指纹,请问如何去除。对板子伤害大么

[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
回复此楼
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖

yswyx

专家顾问 (著名写手)


【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
如果是普通的mask,实验室不做任何电性能实验的话,洗涤剂就行。
如果是做电性能相关的实验,要用浓硫酸+双氧水去煮。
2楼2015-04-03 18:03:30
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖

VIIIX

银虫 (小有名气)

引用回帖:
2楼: Originally posted by yswyx at 2015-04-03 18:03:30
如果是普通的mask,实验室不做任何电性能实验的话,洗涤剂就行。
如果是做电性能相关的实验,要用浓硫酸+双氧水去煮。

电性能实验是什么?那浓硫酸去煮会不会损伤上面的结构
3楼2015-04-03 18:33:56
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖

chaot

新虫 (小有名气)

引用回帖:
2楼: Originally posted by yswyx at 2015-04-03 18:03:30
如果是普通的mask,实验室不做任何电性能实验的话,洗涤剂就行。
如果是做电性能相关的实验,要用浓硫酸+双氧水去煮。

你好,请问硫酸和双氧水会把光刻板的图案刻蚀掉吗?

发自小木虫IOS客户端
4楼2023-03-15 10:28:39
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖
相关版块跳转 我要订阅楼主 VIIIX 的主题更新
信息提示
请填处理意见