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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 紫外曝光的掩模板怎么清洗
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VIIIX

银虫 (小有名气)

[求助] 紫外曝光的掩模板怎么清洗 已有1人参与

最近有一台紫外曝光到了，有个掩模板我一看上面好脏，不但有光刻胶在上面，竟然还有指纹，请问如何去除。对板子伤害大么

[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
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1楼 2015-04-03 15:31:34
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yswyx

专家顾问 (著名写手)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
如果是普通的mask，实验室不做任何电性能实验的话，洗涤剂就行。
如果是做电性能相关的实验，要用浓硫酸+双氧水去煮。
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2楼2015-04-03 18:03:30
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VIIIX

银虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by yswyx at 2015-04-03 18:03:30
如果是普通的mask，实验室不做任何电性能实验的话，洗涤剂就行。
如果是做电性能相关的实验，要用浓硫酸+双氧水去煮。

电性能实验是什么？那浓硫酸去煮会不会损伤上面的结构
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3楼2015-04-03 18:33:56
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chaot

新虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by yswyx at 2015-04-03 18:03:30
如果是普通的mask，实验室不做任何电性能实验的话，洗涤剂就行。
如果是做电性能相关的实验，要用浓硫酸+双氧水去煮。

你好，请问硫酸和双氧水会把光刻板的图案刻蚀掉吗？

发自小木虫IOS客户端
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4楼2023-03-15 10:28:39
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