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张磊爱化学木虫 (正式写手)
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SiO2作为模板的刻蚀问题
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利用SiO2球为模板合成多孔碳，HF酸刻蚀后的碳测XRD出现杂峰，而不是纯碳的峰，测ICP等也硅的含量在3%左右，请问这该怎么解释？ 1.jpg |
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