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张磊爱化学

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[求助] SiO2作为模板的刻蚀问题

利用SiO2球为模板合成多孔碳,HF酸刻蚀后的碳测XRD出现杂峰,而不是纯碳的峰,测ICP等也硅的含量在3%左右,请问这该怎么解释?

SiO2作为模板的刻蚀问题
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