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gao198907

铜虫 (小有名气)

[求助] 电子束蒸发YIG材料 已有2人参与

大家好,我是做电子束蒸发方向的,新买的电子束蒸发设备,用来蒸发Y3Fe5O12这种材料,大块靶材蒸发时碎裂弹出坩埚,所以把靶材敲成小碎块,发现薄膜生长速度0.1埃左右很慢,像镀铝这种就很快,是什么原因。
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wbcui

至尊木虫 (知名作家)

电子束蒸发本来就很慢,你可以调靶-沉淀间距

你们买的哪里的电子束蒸发系统?多少钱?
2楼2014-09-03 17:31:20
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gao198907

铜虫 (小有名气)

引用回帖:
2楼: Originally posted by wbcui at 2014-09-03 17:31:20
电子束蒸发本来就很慢,你可以调靶-沉淀间距

你们买的哪里的电子束蒸发系统?多少钱?

调距离,工程师说这个距离小了,膜厚就不均匀了
3楼2014-09-03 18:15:52
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wbcui

至尊木虫 (知名作家)

引用回帖:
3楼: Originally posted by gao198907 at 2014-09-03 19:15:52
调距离,工程师说这个距离小了,膜厚就不均匀了...

哦,你们的应该是共沉积,抢是斜着的那种。这样的确会引起膜厚不均匀。


你们的设备是哪里买的?多少钱?
4楼2014-09-03 21:17:18
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whywhy01

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
像YIG这种氧化物靶材确实应该是块体或者粉末状的,不容易裂开。
YIG本身熔点比较高,蒸发慢,镀膜速度肯定比不上铝这样的低熔点金属。提高电子束功率就能镀快一些。另外还要注意电子束的扫描模式,蒸镀金属的时候电子束斑是集中在很小的点上的,镀氧化物电子束应该是在整个靶材表面扫描,这样受热均匀。
我觉得镀YIG这样的复杂氧化物0.1A/s的速度应该够了,镀慢一点薄膜质量好一些...
5楼2014-09-04 10:12:29
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gao198907

铜虫 (小有名气)

引用回帖:
5楼: Originally posted by whywhy01 at 2014-09-04 10:12:29
像YIG这种氧化物靶材确实应该是块体或者粉末状的,不容易裂开。
YIG本身熔点比较高,蒸发慢,镀膜速度肯定比不上铝这样的低熔点金属。提高电子束功率就能镀快一些。另外还要注意电子束的扫描模式,蒸镀金属的时候电 ...

不是的,我们就是束流光斑采用圆形的扫描,而且靶材也是敲成碎块,但是发现靶财中间打穿一个圆孔,靶材和基片的距离最小50cm,我大师兄说可能yig的分子量比较大,蒸发不上去,我们用pld的话基本一个小时能镀300nm左右,而且我们需要做的薄膜在微米级的,如果按这种速度的话没法做了

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6楼2014-09-05 21:42:14
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gao198907

铜虫 (小有名气)

引用回帖:
4楼: Originally posted by wbcui at 2014-09-03 21:17:18
哦,你们的应该是共沉积,抢是斜着的那种。这样的确会引起膜厚不均匀。


你们的设备是哪里买的?多少钱?...

设备是沈阳科仪的,大概30几万吧

[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
7楼2014-09-05 21:44:17
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gao198907

铜虫 (小有名气)

引用回帖:
5楼: Originally posted by whywhy01 at 2014-09-04 10:12:29
像YIG这种氧化物靶材确实应该是块体或者粉末状的,不容易裂开。
YIG本身熔点比较高,蒸发慢,镀膜速度肯定比不上铝这样的低熔点金属。提高电子束功率就能镀快一些。另外还要注意电子束的扫描模式,蒸镀金属的时候电 ...

靶材也用过粉末状的,用的纳米粉末压成片,但是没有烧结 致密度差,里面有空气,对真空影响很大,还没开始真空度都到10^—2级别了,我们电子枪工作压强要在5×10^-2以下,所以电子枪会自动关掉,而且加束流的时候,我慢慢加,小的时候没有速度,大的时候靶材和放烟花一样,一下子往外面溅出来,真空度暴涨。

[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
8楼2014-09-05 21:51:41
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whywhy01

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

引用回帖:
8楼: Originally posted by gao198907 at 2014-09-05 21:51:41
靶材也用过粉末状的,用的纳米粉末压成片,但是没有烧结 致密度差,里面有空气,对真空影响很大,还没开始真空度都到10^—2级别了,我们电子枪工作压强要在5×10^-2以下,所以电子枪会自动关掉,而且加束流的时候, ...

你们的背底只有10^-2托吗?如果有两级真空泵的话应该先抽到10^-7托以下,粉末的靶材大约7到12个小时差不多了,那样就不会超了。
用一堆小碎块更不容易放烟花。扫描模式是怎样的?
还可以控制束流在放烟花的临界点上,速度显示可能是0,但是慢慢等还是能有厚度加上去的,需要手动计时换算沉积速度了。这个方法镀膜极慢,不是很推荐
9楼2014-09-06 01:05:03
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whywhy01

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

引用回帖:
8楼: Originally posted by gao198907 at 2014-09-05 21:51:41
靶材也用过粉末状的,用的纳米粉末压成片,但是没有烧结 致密度差,里面有空气,对真空影响很大,还没开始真空度都到10^—2级别了,我们电子枪工作压强要在5×10^-2以下,所以电子枪会自动关掉,而且加束流的时候, ...

抱歉没注意到前面那个说明...微米级的氧化物薄膜确实很难做,就算电子束速度快一次也不能镀太久,要分好几次,说不定就有新的界面了。
用磁控溅射试一试?
10楼2014-09-06 01:07:36
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